Система совмещения для полупроводниковой пластины 200IR

OAI Model 200IR Mask Aligner - это настольная система, требующая минимального пространства в чистом помещении. Это экономически эффективная альтернатива для НИОКР или ограниченного масштаба опытного производства. Используя инновационную систему выравнивания с воздушным подшипником и вакуумным патроном, подложка выравнивается быстро и аккуратно, обеспечивая параллельное выравнивание фотомаски и равномерный контакт по всей пластине во время контактного экспонирования. Модель 200IR Mask Aligner способна обеспечить микронное разрешение и точность выравнивания. Он оснащен модулем выравнивания, в котором имеются наборы вставок для масок и быстросменные патроны для пластин, позволяющие использовать различные подложки и маски без необходимости использования инструментов для перенастройки. Модуль выравнивания включает микрометры для осей X, Y и z. Этот выравниватель масок оснащен надежным источником света OAI, который обеспечивает коллимированное ультрафиолетовое излучение в ближнем или глубоком ультрафиолете с использованием ламп мощностью от 200 до 2000 Вт. Двойные датчики, оптические контуры обратной связи связаны с регулятором постоянной интенсивности для обеспечения контроля интенсивности облучения в пределах ±2% от желаемой интенсивности. Изменение длины УФ-волны может быть произведено быстро и легко. Модель 200IR Mask Aligner - это гибкое, экономичное решение для любых задач начального уровня по выравниванию масок и УФ-облучению для МЭМС, микрофлюидики и НИЛ.