Системы прецизионной полировки Logitech DP были разработаны для решения проблемы времени полировки при обработке полупроводниковых материалов, которые в промышленности часто называют "трудными" для полировки. Эти системы были разработаны для полуавтоматической полировки на заключительном этапе твердых материалов, таких как сапфир, карбид кремния (SiC) или нитрид галлия (GaN).
Системы прецизионной полировки DP, поставляемые в виде одной или четырех рабочих станций, могут обрабатывать материалы до 300 мм (или несколько меньших образцов) на DP1 и 260 мм на рабочую станцию (или несколько меньших образцов) на DP4. Системы DP оснащены специальными полировальными головками, которые прикладывают большое усилие на образцы, при этом скорость и направление вращения полностью контролируются. В результате достигается самый высокий уровень пропускной способности образцов среди всех систем Logitech.
Благодаря своей производительности системы DP Precision Polishing Systems идеально подходят как для небольших исследовательских лабораторий, так и для производственных предприятий.
Системы DP химически устойчивы к стандартным химикатам, используемым в CMP, включая гипохлорит натрия (Na OCL).
Типичные возможности обработки поверхности:
Сапфир: <1нм
GaN: <1 нм
SiC: <3 нм
Ключевые особенности
Автономные системы с одной или четырьмя рабочими станциями, с производительностью до 300 мм на DP1 и 260 мм на рабочую станцию на DP4 (или несколько меньших образцов).
Полировальная несущая головка DP1 может прикладывать до 200 кг загрузки, а DP4 - до 50 кг загрузки на несущую головку, что обеспечивает самую высокую пропускную способность образцов среди всех полировальных систем Logitech.
---