Осушитель с кипящим слоем SemiDry

непрерывного действия

Система HZI SemiDry включает в себя полусухой процесс сорбции, использующий принцип циркулирующего псевдоожиженного слоя. Гашеная известь вводится в реактор псевдоожиженного слоя для нейтрализации агрессивных кислотных газов. Температура в реакторе является ключевым фактором процесса сорбции. Для достижения идеальной температуры реакции (обычно 145°C) в реактор одновременно распыляется вода. Помимо регулирования температуры, вода реактивирует рециркулирующие остатки, оптимизируя эффективность процесса разделения. Низкий уровень выбросов и высокая эффективность при изменениях концентрации загрязняющих веществ в дымовом газе (высокая буферная емкость для предотвращения скачков, возникающих из-за большого количества твердых частиц в системе) Низкая чувствительность к колебаниям температуры на входе в реактор (температура регулируется путем впрыска воды) Высокая энергоэффективность по сравнению с системами на основе известкового шлама Высокая эксплуатационная готовность и низкие затраты на эксплуатацию и техническое обслуживание благодаря использованию проверенного оборудования с небольшим количеством механических компонентов С помощью автономной системы SemiDry можно достичь верхних пределов BREF. При дооснащении скруббером постоянного тока также можно достичь низких значений BREF - благодаря комбинации с SemiDry, по-прежнему без сточных вод