Машина для нанесения покрытий PVD LTMC

CVDвакуумная

Обзор
Оборудование LTMC выполняет низкотемпературное плазменное химическое осаждение из газовой фазы (PCVD) для формирования металло-керамического диффузионного слоя на металлических деталях. В вакууме и при температуре ниже 150°C плазма активирует технологические газы, содержащие кремний, бор и азот, которые реагируют с поверхностью и диффундируют в подложку, образуя градиентный композитный керамический слой, повышающий твердость поверхности и обеспечивающий твердофазное смазывание.

Краткие характеристики

• Объём камеры: 3,4 м³
• Эффективная область обработки: 1 200 × 1 100 × 550 мм
• Максимальная нагрузка: 3 000 кг
• Типичное время процесса: 3–5 часов (зависит от детали и параметров)
• Рабочая температура: ниже 150°C

Ключевые преимущества технологии LTMC

• Низкотемпературное упрочнение поверхности: повышает твердость поверхности при минимальном тепловом воздействии на подложку, подходит для тонкостенных и прецизионных деталей.
• Керамическое диффузионное соединение: Si, B и N образуют керамические фазы, которые диффундируют на глубину ~10–20 μm, формируя градиентный прочный износостойкий слой.
• Самосмазывающаяся поверхность: образование фаз, например гексагонального нитрида бора, обеспечивает твердое смазывание, снижая трение при сохранении твердости.
• Обработка внутренних и внешних поверхностей: регулируемые формы электродов позволяют обрабатывать внутренние стенки и тонкостенные детали.

Применение и совместимые материалы

• Типичные применения: гильзы цилиндров, поршневые кольца, режущие инструменты, формы, распределительные валы, коромысла, подшипники, шестерни и аналогичные детали, требующие износостойкости и низкого трения.
• Обрабатываемые материалы: стали, титановые сплавы, алюминиевые сплавы, твердые сплавы (тестовые примеры: 20CrNiMo, TC17, YG6, чистая медь).

Детали процесса и функциональные особенности
LTMC использует низкотемпературный PCVD: плазма активирует реактивные газы (содерж. Si, B, N), которые образуют керамические фазы и диффундируют в приповерхностную область на глубину 10–20 μm, создавая градиентный композитный слой с износостойкими и самосмазывающимися свойствами.

Параметры продукта
Оборудование: LTMC Low Temperature Metal Ceramic Coating Equipment
Технология процесса: Low Temperature Plasma Chemical Vapor Deposition (PCVD)
Объём камеры: 3,4 м³
Эффективная область обработки: 1 200 × 1 100 × 550 мм
Максимальная нагрузка: 3 000 кг
Габариты оборудования (Д × Ш × В): 8 770 × 5 100 × 2 320 мм
Элементы, формирующие керамику: кремний, бор, азот
Технологические газы: N2 / SiH4 / B2H6
Глубина диффузии керамики: 10–20 μm
Режимы управления газами: управление давлением в камере или управление расходом газа
Конфигурация вакуумного насоса: ротационный лопастной насос + Roots насос
Скорость откачки: 1 200 м³/ч
Типичное время процесса: 3–5 часов
Рабочая температура: ниже 150°C

Избранные вопросы и ответы

• Для чего используется LTMC? — Низкотемпературная металло-керамическая диффузионная обработка для повышения твердости поверхности, износостойкости и самосмазывающих свойств деталей вроде гильз, подшипников, шестерен, режущих инструментов и форм.
• Какая температура обработки? — Ниже 150°C (максимальная рабочая температура 150°C).
• Какие материалы можно обрабатывать? — Сталь, титановые сплавы, алюминиевые сплавы, твердые сплавы (например: 20CrNiMo, TC17, YG6, чистая медь).
• Можно ли обрабатывать внутренние стенки и тонкостенные детали? — Да. Формы электродов настраиваются для обработки внутренних стенок и тонкостенных деталей (напр., гильзы толщиной 1,5 мм).
• Какова максимальная грузоподъёмность? — 3 000 кг; эффективная область 1 200 × 1 100 × 550 мм; объём камеры 3,4 м³.

Технические характеристики

• Серия / название: LTMC
• Процесс: Low Temperature Plasma Chemical Vapor Deposition (PCVD)
• Объём камеры: 3,4 м³
• Эффективная область обработки: 1 200 × 1 100 × 550 мм
• Максимальная нагрузка: 3 000 кг
• Габариты оборудования: 8 770 × 5 100 × 2 320 мм
• Рабочая температура: ниже 150°C
• Типичное время цикла: 3–5 часов (зависит от детали и настроек)
• Элементы, формирующие керамику: кремний, бор, азот
• Технологические газы (примеры): N2 / SiH4 / B2H6
• Глубина диффузии керамики: 10–20 μm
• Управление газами: управление давлением в камере или управление потоком
• Вакуумная система: ротационный лопастной насос + Roots насос
• Скорость откачки: 1 200 м³/ч
• Обрабатываемые материалы: сталь, титановые сплавы, алюминиевые сплавы, твердые сплавы
• Возможности: обработка внутренних и внешних поверхностей, обработка тонкостенных деталей, настраиваемые формы электродов