Керамический вакуумный держатель PLASMAPURE™ ALUMINA

Керамические компоненты для литографии и контроля полупроводниковых пластин Наши сверхчистые керамические компоненты, идеально подходящие для литографии и обработки полупроводниковых пластин нового поколения, обеспечивают минимальное загрязнение и исключительно долгий срок службы. КОМПОНЕНТЫ ДЛЯ ЛИТОГРАФИИ И КОНТРОЛЯ ПЛАСТИН Устойчивые к химическому воздействию и термостабильные, наши высокочистые керамические компоненты идеально подходят для литографии, обработки полупроводниковых пластин (низкий уровень загрязнения) и контроля полупроводниковых пластин (исключительная прочность и твердость, стабильность размеров). Области применения включают: Подложки для фотомасок Патроны для пластин Компоненты для установки полупроводниковых пластин Столы для подложек РЕКОМЕНДУЕМЫЕ МАТЕРИАЛЫ ДЛЯ ЛИТОГРАФИИ И КОНТРОЛЯ ПЛАСТИН Высокочистые алюминаты UltraClean™ рекристаллизованный карбид кремния CeraSiC, UltraSiC™ карбиды кремния прямого спекания ПОДЛОЖКИ ДЛЯ ФОТОМАСОК Подложки для фотомасок CoorsTek изготавливаются из высокочистого синтетического кварцевого стекла, обеспечивающего превосходное пропускание ультрафиолетового и видимого света, термическую стабильность, электроизоляцию, низкое двулучепреломление и стойкую химическую стабильность. Передовая технология полировки с возможностью масштабирования делает эти подложки для фотомасок идеальными для нанесения микроскопических рисунков на пластины и большие плоскопанельные дисплеи (FPD). ВАФЕЛЬНЫЕ ПОДЛОЖКИ Наши сверхплоские керамические вакуумные вафельные патроны, шаговые патроны, пористые патроны и электростатические патроны улучшают управление выходом продукции при обработке полупроводниковых пластин. Конфигурации с низким поверхностным контактом минимизируют риск попадания частиц с обратной стороны для чувствительных приложений. Наши вафельные патроны обеспечивают: Ультраплоские возможности Зеркальная полировка Исключительно малый вес Высокая жесткость Низкое тепловое расширение Диаметр Φ 300 мм и более Исключительная износостойкость