Зонд теплопроводности

для процесса

Оптимизация процессов модификации поверхности плазмы за счет непрерывного измерения расхода энергии В плазменных процессах возникновение и характер поверхностных реакций, а также скорость реакции в значительной степени определяются кинетической энергией входящих частиц. Наряду с другими вкладами, такими как радиация и реакционная энтальпия, она является частью общего притока энергии, который имеет решающее значение для результирующих свойств поверхности обработанной плазмой подложки. ZIROX, NEOPLAS и Институт плазменной науки и техники им. Лейбница разработали новый датчик для измерения реального притока энергии на поверхность во время обработки поверхности на месте. Таким образом, величину, а также направление потока энергии можно охарактеризовать и коррелировать со свойствами материала. Благодаря высокой чувствительности к изменениям технологических параметров и сравнительно низкой стоимости, активный тепловой зонд идеально подходит для эффективного контроля качества и онлайн-мониторинга плазменных процессов в промышленности или научных исследованиях.