Термическая система очистки

сухаяволоконный лазерпутем опрыскивания

Система термовакуумной очистки TESTEQ для высокоточных полупроводниковых компонентов Лучшее в отрасли удаление загрязнений для литографии, оптики и обработки полупроводниковых пластин В этом оборудовании используется инновационная наклонная структура уплотнения (запатентованная конструкция - термовакуум/литография/UHV). Благодаря гравитационно-адаптивной крышке и технологии блокировки двойного уплотнительного кольца, оно может поддерживать стабильный уровень вакуума (≤10-⁶ Па), решая проблему снижения эффективности очистки, вызванную нарушением герметичности в традиционном оборудовании. Он интегрирует систему распыления с двумя жидкостями (гидроксид натрия + деионизированная вода), поддерживая неразрушающую очистку в высокотемпературной (350℃) вакуумной среде, избегая деформации от теплового напряжения. Она подходит для обслуживания высокоточных компонентов, таких как пластины маски, группы линз и компоненты вакуумного насоса литографических машин, значительно повышая выход микросхем и срок службы оборудования. Полностью автоматическое оборудование для термической вакуумной очистки, специально разработанное для компонентов литографических машин и масочных пластин. Благодаря высокой температуре и низкому давлению, а также бесконтактной технологии сухой очистки, оно может тщательно удалять загрязнения наноуровня (такие как органические остатки и частицы), удовлетворяя строгим требованиям к ультрачистым поверхностям в области производства полупроводников, плоских дисплеев и интегральных схем. Он поддерживает многосценарийную очистку пластин, оптических линз, вакуумных камер и т.д.