Линза из кремния
MWIRдля оптикидля сканирования

линза из кремния
линза из кремния
Добавить в папку «Избранное»
Добавить к сравнению
 

Характеристики

Материал
из кремния
Оптические характеристики
MWIR
Применение
для оптики, для сканирования
Диаметр

МИН.: 10 mm (0,39 in)

МАКС.: 101,6 mm (4 in)

Описание

Вся продукция изготавливается на нашем собственном заводе, чтобы обеспечить необходимую гибкость в применении. Мы используем исключительно чистый кремний (9N) для поддержания надежной и качественной консистенции. Нашей целью является изготовление продукции с высокой добавленной стоимостью в соответствии с индивидуальными спецификациями для удовлетворения потребностей каждого пользователя с наивысшим уровнем качества. Оптический кремний обычно указывается с удельным сопротивлением от 5 до 40 Ом-см для лучшей передачи около 10 мкм. Кремниевые окна имеют дополнительную полосу пропускания от 30 до 100 мкм, которая эффективна только в материалах с очень высоким удельным сопротивлением ВОЗМОЖНОСТИ SIL'TRONIX ST ДЛЯ КРЕМНИЕВЫХ ЛИНЗ Sil'tronix выращивает свои собственные слитки кремния методом вытягивания Чохральского (CZ). Этот метод вытягивания производит кремний, который содержит некоторое количество кислорода, вызывая появление полосы поглощения на 5,8, 9,1 и 19,4 мкм. Чтобы избежать этого, можно поставлять материал поплавковой зоны (FZ), который не имеет такого поглощения. Наши монокристаллические кремниевые оптические окна часто используются для лазерных зеркал и диффузоров, благодаря их высокой теплопроводности и низкой плотности. Наши продукты также полезны в качестве передатчика в диапазоне 20 микрон, а также в основном используются в качестве мишеней в экспериментах по нейтронной физике Типичные области применения кремниевых линз - XRD (рентгеновский дифракционный анализ) - СЭМ (сканирующий электронный микроскоп) - AFM (атомно-силовой микроскоп) - FTIR инфракрасный - флуоресцентный спектроскопический анализ - Эксперимент по радиационному излучению носителя образца синхротронного излучения - Молекулярно-лучевой эпитаксиальный субстрат роста луча - Очень высокоомный резистивный материал может поставляться по специальному заказу, в частности, для установок Tera Hertz.

---

Каталоги

Для этого товара не доступен ни один каталог.

Посмотреть все каталоги Sil'Tronix Silicon Technologies
* Цены указаны без учета налогов, без стоимости доставки, без учета таможенных пошлин и не включают в себя дополнительные расходы, связанные с установкой или вводом в эксплуатацию. Цены являются ориентировочными и могут меняться в зависимости от страны, цен на сырьевые товары и валютных курсов.