Спектрометр фотоэлектронных рентгеновских лучей XPS

для лабораторийдля обработки поверхностейдля спектроскопии

Обзор
Рентгеновская фотоэлектронная спектроскопия (XPS), также известная как ESCA, — это отработанная методика анализа поверхности для характеристики материалов. XPS обеспечивает количественную информацию по элементам и химическим состояниям из верхних ~10 нм материала. Фотоэлектронный спектрометр Kratos AXIS Nova собирает XPS‑спектры и изображения с материалов, стабильных в условиях ультравысокого вакуума, требуемых для метода.

Характеристики работы
Разработан для эффективной эксплуатации в лабораториях и на производстве: AXIS Nova оснащён автоматической загрузкой образцов, ортогональными камерами для быстрого позиционирования и интуитивным программным обеспечением для сбора данных. Плашка образца диаметром 110 мм позволяет работать с крупногабаритными образцами и обеспечивает высокий пропуск на пробах, не снижая чувствительности, энергетического разрешения или пространственного разрешения изображений.

Ключевые функции

• Sensitivity — Эффективный сбор фотоэлектронов для высокой чувствительности в режимах спектроскопии и XPS‑изображения.
• Resolution — Отличное энергетическое разрешение для точного измерения небольших химических сдвигов.
• Simplicity — Использует программное обеспечение ESCApe для сбора, обработки и отчетности, единое для приборов Kratos.
• Parallel XPS imaging — Позволяет картировать распределение элементов и химии по поверхности.
• Automation — Автоматизация обработки образцов и готовые рабочие процедуры для увеличения пропускной способности и повторяемости.
• Additional capabilities — Расширяемая система: опционально возможна установка UV He‑discharge лампы для UPS (измерения валентной зоны и работы выхода) и других аналитических модулей.

Применения (выборочно)

• Покрытия и тонкие плёнки
• Полимеры и обработка поверхности
• Глубинный профиль методом распыления Arn+ газовыми кластерами для сшитых плазменных полимеров
• Анализ полимерных стентов, покрытых лекарством
• Комбинаторные системы тонких плёнок — анализ матричных образцов

Технические характеристики

• Метод: рентгеновская фотоэлектронная спектроскопия (XPS) / ESCA
• Глубина анализа: информация из верхних ~10 нм материала
• Диаметр планшайбы: 110 мм (обработка крупногабаритных образцов)
• Обработка образцов: автоматическая загрузка образцов
• Позиционирование: ортогональные камеры для удобного выравнивания
• Изображение: параллельная XPS‑имиджинг с высокой пространственной резолюцией
• Чувствительность и разрешение: высокая чувствительность и отличное энергетическое разрешение
• Программное обеспечение: ESCApe для сбора, обработки и отчетности
• Опции: UV He‑discharge лампа для UPS (измерения валентной зоны и работы выхода)