Удаленные примеси: N2, Ar, O2, CO, CO2, H2O, CH4
- Процесс очистки: криогенная адсорбция
- Принцип: газ проходит через слой адсорбента при очень низкой температуре.
- Основная область применения: мобильность, фотоэлектрическое оборудование, газовая промышленность, полупроводниковая промышленность..
Техническая информация:
- Давление: до 380 барг
- Уровень примесей на выходе: < 10 ppb
- Полуавтоматическое или автоматическое исполнение (HMI/PLC)
---