Скорость сканирования: ≤3280′ /с
Точность позиционирования повтора сканирования: ±5 мкм
Лазерная высокоскоростная микрообработка является одним из незаменимых и широко используемых лазерных методов в обработке микроотверстий. С уменьшением толщины целевого материала и увеличением плотности матрицы отверстий, традиционная обработка и гальванометрическое сканирование не могут достичь ожидаемой скорости и точности. По сравнению с традиционным гальванометрическим сканирующим устройством, высокоскоростное полигональное зеркальное сканирование с наносекундной высокой частотой повторения лазера может эффективно реализовать высокоскоростные лазерные прецизионные массивы микроотверстий и решить востребованные исследовательские проекты.
ТЕХНИЧЕСКИЕ ПАРАМЕТРЫ
Размер станка: 82.2″*71.6″*78.7″
Размер верстака: 15.74″*15.74″
Мощность лазера (Вт): 500
Длина волны лазера (нм): 1064
Ширина импульса лазера (нс): 30/60/120/240
Частота лазера (кГц): 2000/1000/500/500
Диаметр сфокусированного пятна (мкм): ≤40
Эффективное фокусное расстояние: 16,53″
Диапазон сканирования: 11.8″*11.8″
Скорость сканирования: ≤2000'/с
Частота сканирующей линии (Гц): 1600
Точность позиционирования повтора сканирования (мкм): ±5μm
Методы обработки: Линейный режим, матричный режим, bmp режим
Метод позиционирования: Полигональный зеркальный сканер совмещен с механическим валом
МЕТОДЫ ОБРАБОТКИ
Лазерное решетчатое сканирование
Лазерное линейное сканирование
Высокоскоростная обработка растровых карт BMP
Лазерное сверление
Лазерная линейная резка
Обработка массивов микроотверстий высокой плотности
лазерное рифление
---