Система позиционирования XY

ротационнаялазервакуумная

8 Станционный указатель полупроводниковых пластин Эта система была разработана специально для обработки 2" или 3" полупроводниковых полупроводниковых пластин при повышенных температурах ионным пучком. Она состоит из настольной печи с высокоточным источником питания постоянного тока и системой индексирования, которая обеспечивает точный контроль положения пластин и позволяет обрабатывать 8 пластин в партии за серию. Вафли вращаются в нагреватель и нагреваются в течение нескольких секунд, прежде чем начнется обработка ионным лучом. Температура контролируется с помощью оптического пирометра, считывающего температуру поверхности нагретой пластины. Большое отверстие для доступа позволяет устанавливать приборы для измерения ионного пучка. Печь представляет собой комплектную систему поворотного ключа с вакуумной системой, системой инертного газа, серворегуляторами индексирования, температурным контролем и водяным охлаждением.