В 2003 году компания JEOL выпустила первый в мире FE-EPMA, JXA-8500F. Этот высоко оцененный FE-EPMA уже давно используется в различных областях, таких как: металлы, материалы и геология, как в промышленности, так и в научных кругах. JXA-8530FPlus - это третье поколение FE-EPMA, обладающее расширенными возможностями анализа и визуализации. Эмиссионная электронная пушка In-Lens Schottky в сочетании с новым программным обеспечением обеспечивает более высокую пропускную способность при сохранении высокой стабильности, что позволяет расширить спектр приложений EPMA с более высоким разрешением.
Версия In-Lens Schottky Plus FEG EPMA
Версия In-Lens Schottky Plus FEG EPMA с оптимизированной угловой плотностью тока позволяет проводить анализ при большом токе зонда 2 мкА и более. Разрешение изображения вторичных электронов улучшено даже в аналитических условиях благодаря автоматической настройке на правильный угол конвергенции.
Расширенное программное обеспечение
Доступно множество передовых прикладных систем на базе Microsoft Windows®, включая:
Программа анализа микроэлементов для более простого, оптимизированного анализа микроэлементов, включая добавление данных, собранных с 5 спектрометров,
Phase Map Maker для автоматического создания фазовых карт на основе главных компонент,
Программа анализа неплоских поверхностей для автоматизированного WDS-анализа образцов с неровностями поверхности. Это возможно благодаря большому Z-перемещению столика (7,5 мм).
Примечания:Windows является зарегистрированной торговой маркой корпорации Microsoft в США и других странах.
---