Растворитель для очистки
для отходов после гравировки

растворитель для очистки
растворитель для очистки
растворитель для очистки
Добавить в папку «Избранное»
Добавить к сравнению
 

Характеристики

Функция
для очистки
Место применения
для отходов после гравировки

Описание

Очистители Водные очистители послезольных остатков на алюминиевых и медных сплавах, антибликовых слоях, SiO2 и диэлектриках с низким кпд Высокоэффективные водные очистители послезольных остатков для процессов Al/SiO2 и Cu/low-k BEOL. Применения включают удаление остатков травления на уровне переходов, металлических линий и связующих площадок на сплавах Al, антибликовых слоях и диэлектриках SiO2 или удаление остатков травления в процессах дамаскирования с совместимостью с Cu, low-k и ultra-low-k. - Широкая технологическая широта - Совместимость с распылением и серийными инструментами - Неоспоримое преимущество в стоимости владения по сравнению с очистителями на основе гидроксиламина (HA) - Прямая промывка водой DI - Исключение затрат на химикаты для промывки IPA - Увеличение производительности за счет исключения этапов промывки ПНД - Безопасен и прост в использовании - Отличная совместимость с материалами технологического оборудования - Превосходная совместимость с металлами и ДВУ - Варианты упаковки: - 4-литровая бутылка из ПЭНД - бочка 200 л - Удаление остатков травления на уровне выводов, металлических линий и площадок для соединения на сплавах Al, антибликовых слоях и диэлектриках SiO2. - Удаление остатков травления в процессах дамаскирования с совместимостью с Cu, low-k и ultra low-k.

---

Каталоги

Для этого товара не доступен ни один каталог.

Посмотреть все каталоги Fujifilm NDT Systems
* Цены указаны без учета налогов, без стоимости доставки, без учета таможенных пошлин и не включают в себя дополнительные расходы, связанные с установкой или вводом в эксплуатацию. Цены являются ориентировочными и могут меняться в зависимости от страны, цен на сырьевые товары и валютных курсов.