Алмаз из бора Diafilm™ EP

поликристаллическийCVD

Наш Diafilm™ EP был специально разработан как твердый, свободно стоящий материал для CVD-алмазных электродов, что устраняет общие проблемы, связанные с тонкопленочным алмазным покрытием, такие как отслаивание покрытия. В сочетании с чрезвычайно широким окном растворителя этот материал является выбором для сложных приложений электрохимии, обеспечивая более длительный срок службы, снижая затраты на процесс и позволяя разрабатывать новые типы процессов. Чрезвычайно широкое окно растворителя Diafilm™ EP - это твердая, свободно стоящая форма поликристаллического алмаза, легированного бором (BDD). Он был специально разработан для работы при очень высоких плотностях тока (свыше 10 000 А м-2) и имеет чрезвычайно широкое окно растворителя, что позволяет применять сверхвысокие электропотенциалы в ионных растворителях. В воде алмазные электроды, легированные бором, способны генерировать короткоживущие, сильно окисляющие виды, такие как гидроксильный радикал на поверхности анода и высокие концентрации таких видов в растворе, как озон. Новые возможности в химической обработке Diafilm™ EP позволяет проводить химические процессы, которые в противном случае были бы дорогостоящими, опасными или запрещенными другими способами. Ощутимые преимущества включают в себя снижение расхода расходных материалов, повышение производительности и увеличение эффективности. Значительные экологические преимущества включают сокращение объема опасных отходов и общих затрат на их утилизацию. Более маленькие и компактные электрохимические ячейки В электрохимическом процессе произведенная работа пропорциональна общему заряду, протекающему через ячейку. Тонкопленочные алмазные электроды обычно работают при плотности тока в диапазоне от 300 до 1000 А м-2.