Фильтрующий элемент с растворителем LifeASSURE™ PSN
для тонкой фильтрациииз ПЭНДдля общего применения

Фильтрующий элемент с растворителем - LifeASSURE™ PSN - 3M Filtration & Separation - для тонкой фильтрации / из ПЭНД / для общего применения
Фильтрующий элемент с растворителем - LifeASSURE™ PSN - 3M Filtration & Separation - для тонкой фильтрации / из ПЭНД / для общего применения
Добавить в папку «Избранное»
Добавить к сравнению
 

Характеристики

Фильтрируемые вещества
с растворителем
Тип фильтрации
для тонкой фильтрации
Материал
из ПЭНД
Назначение
для общего применения, для процесса
Область применения
промышленный, химический
Другие характеристики
складчатый, мембранный
Коэффицент удержания

МИН.: 0,04 µm

МАКС.: 0,2 µm

Описание

Мы разработали фильтрующие картриджи 3M™ LifeASSURE™ серии PSN с нейлоновой мембраной с высокой степенью ретенции для удовлетворения самых строгих требований, предъявляемых к фоторезистам и вспомогательным химическим веществам. Используя технологию 3M Advanced Pleat Technology (APT), нейлоновые фильтрующие картриджи 3M™ LifeASSURE™ серии PSN обеспечивают максимальную скорость потока при минимальном перепаде давления, максимизируя пропускную способность и снижая стоимость владения. фильтрующие картриджи 3M™ LifeASSURE™ серии PSN представляют собой нейлоновые мембранные фильтрующие элементы с высокой степенью ретенции, в которых используется технология Advanced Pleat Technology (APT) компании 3M. фильтрующие картриджи 3M™ LifeASSURE серии PSN обеспечивают максимальную скорость потока при минимальном перепаде давления, максимизируя пропускную способность и снижая стоимость владения. Естественно гидрофильная плиссированная мембрана из нейлона 6,6, изготовленная из полиэтилена высокой плотности (HDPE), обеспечивает низкий уровень экстрагируемых веществ и превосходное снижение содержания геля и твердых частиц по сравнению с другими мембранными картриджами. фильтрующие картриджи 3M™ LifeASSURE™ серии PSN идеально подходят для применения в производстве фоторезиста и вспомогательных химических веществ, где требуется высокоэффективное снижение загрязнений на уровне 0,04 мкм, 0,1 мкм или 0,2 мкм. Передовая технология Pleat обеспечивает максимальное уменьшение геля Обычно в фоторезистах можно обнаружить небольшое количество гелевых частиц, которые могут образовываться в процессе производства и хранения. Устранение геля из фоторезистов в значительной степени зависит от перепада давления в системе фильтрации. Поскольку эти гели деформируются, они могут выдавливаться через фильтр при высоком перепаде давления.

---

Другие изделия 3M Filtration & Separation

Pleated Membrane Cartridges

* Цены указаны без учета налогов, без стоимости доставки, без учета таможенных пошлин и не включают в себя дополнительные расходы, связанные с установкой или вводом в эксплуатацию. Цены являются ориентировочными и могут меняться в зависимости от страны, цен на сырьевые товары и валютных курсов.