Эффективное снижение содержания ионов металлов до <50ppt
Более высокая производительность по сравнению с мембранными очистителями
Извилистый путь с высокой площадью внутренней поверхности матрицы носителя 3M™
Глубина среды 3M™ обеспечивает увеличенное время пребывания IX - жидкости по сравнению с мембранными очистителями
Фиксированная матрица среды не позволяет отводить химические вещества
фильтрующие картриджи 3M™ Metal Ion Purifier серии SCP помогают уменьшить загрязнение ионами металлов фоторезиста и других химикатов высокой чистоты в микроэлектронной промышленности.
---